仪器型号
Talos F200i
生产厂家
投入日期
管理人员
郑振环,陈玉龙
电 话
安放地址
性能参数
分辨率:信息分辨率优于0.12nm,STEM-HAADF分辨率优于0.16n m,点分辨率优于0.25nm,线分辨率优于0.10nm
加速电压:80kV~200 kV
能量分辨率:MnKα优于129eV
附件:(1)Bruker Xflash 6TI60射线能谱仪(EDS);
(2)单、双倾杆。
仪器主要用途
普通透射成像(TEM)用于观察样品的形貌;高分辨透射(HRTEM)可用于确定材料的晶体结构,观测晶体缺陷及界面结构;电子衍射模式主要用于物相、晶体结构研究,可进行选区电子衍射等; STEM模式主要用于形貌及结构的观察,包含BF/DF/HAADF等成像;EDS能谱用于材料化学成分的定性、定量及面分布等分析。
送样要求
面向学科
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